IKERLAN

IKERLAN Centro de Investigaciones Tecnológicas

ÁREA DE MICROSISTEMAS

Ikerlan es un Centro Tecnológico con vocación de aplicación de las nuevas tecnologías en productos y procesos de la industria. En esta línea, y tras observar el auge de las aplicaciones de los microsistemas en la industria, se comenzó hace 3 años la actividad en dicho campo.

Las líneas tecnológicas en las que se define su actividad son:

• Técnicas de micromecanizado y Microfabricación
  
• Sensores de variables físicas y químicas
  
• Óptica integrada
  
• Simulación multifísica
  
• Técnicas de pegado y adhesivos
  
• Técnicas de bonding y microsoldadura
  
• Tecnología de polímeros
  
• Análisis de fiabilidad

Las líneas tecnológicas que se plantean a corto plazo son:

• Microválvulas y Micromotores
• Microgenaración de energía
• Microactuadores
• Nanotecnologías

Breve descripción de medios:

Instalaciones: Sala Limpia de 115m2 dividida en dos zonas de clase 1.000 y 10.000.

 

Equipos: Spinner, insoladora-alineadora de doble cara, bonder, wire bonding, die attach y baños químicos.

 

Equipos de medida e inspección: Perfilómetro confocal sin contacto, microscopio óptico de 1.000 aumentos, estereomicroscopio de 100 aumentos.

 

Publicaciones / Patentes / Actividades relevantes:

1. Título Artículo: Optimisation of a three electrodes electrochemical etch stop process
Autores: J. Gª. Elizalde, S. Olaizola, G. Bistué, E. Castaño, A. García-Alonso and F. J. Gracia
Revista: Sensors and Actuators, Vol. 62, No. 1-3, pp. 668-671, 1997.

2. Título Artículo: A micromachined pressure sensor for biomedical applications
Autores: G. Bistué, J. Gª. Elizalde, I. García-Alonso, S. Olaizola, E. Castaño, F. J. Gracia and A. García-Alonso
Revista: Journal of Micromechanics and Microengineering, Vol. 7, pp. 244-246, 1997.

3. Título Artículo: Fabrication of integrated microanalytical chambers and channels for biological assays using Flame Hydrolysis deposition glass
Autores: J. M. Ruano, D. Ortega, J. R. Bonar, A. J. McLaughlin, M. G. Jubber, J. M. Cooper and J. S. Aitchison
Revista: Journal of Microelectronic Engineering, Vol. 46, No. 1-4, pp.419-422, 1999.

4. Título Artículo: Flame Hydrolysis Deposition of Silica on Silicon for the Integration of Optical and Microfluidic Devices for Lab on a Chip Technology
Autores: J. M. Ruano, V. Benoit, J. S. Aitchison and J. M. Cooper,
Revista: Analytical Chemistry, Vol. 72, pp. 1093-1097, 2000.

 

Patente

INVENTORES: Ruano J.M., McLaughlin A.J., Bonar J.R., Jubber M.G., Marques P.V.S., Wilkinson. C.D.W., Aitchison J.S.
TITULO: A reactive ion etching process
Nº DE PATENTE: 9907302.5
FECHA DE PRIORIDAD: 31st March 1999

 

Miembros del grupo

• Kepa Mayora Situación Laboral: Plantilla
• Javier Berganzo Situación Laboral: Plantilla
• Iñigo Aramburu Situación Laboral: Plantilla
• Jorge García Situación Laboral: Plantilla
• Jesús Ruano Situación Laboral: Plantilla
• Aitor Endemaño Situación Laboral: Doctorando
• María Tijero Situación Laboral: Becaria
• María Agirregabiria Situación Laboral: Becaria

 

Proyectos relacionados en curso:

• Desarrollo de un microsensor óptico de vibración
• MicroBoiler: MICROsystem for an efficient and low emission combustion in BOILERs (Proyecto EURIMUS)
• Desarrollo de técnicas avanzadas de óptica integrada
• Microsistemas fluídicos
• Desarrollo de técnicas de encapsulado y micromecanizado